納糯三維科技(上海)有限公司Nanoscribe
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高精度3D打印系統(tǒng)哪家好

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產(chǎn)品型號(hào)Quantum X shape

品       牌

廠商性質(zhì)其他

所  在  地國(guó)外

更新時(shí)間:2024-10-23 13:31:24瀏覽次數(shù):63次

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Quantum X shape雙光子無(wú)掩膜光刻系統(tǒng)是一款真正意義上的多面手?;陔p光子聚合技術(shù),該系統(tǒng)不僅是快速成型制作的機(jī)型,同時(shí)適用于基于晶圓上的任何亞微米精度的2.5D及3D形狀的規(guī)?;a(chǎn)。全新Quantum X shape可以為您打印任何 2.5D 和 3D 微納結(jié)構(gòu),提供真正意義上的設(shè)計(jì)自由度。該系統(tǒng)可實(shí)現(xiàn)您各類高縱橫比結(jié)構(gòu)。
作為同類中超前的3D打印系統(tǒng)
Quantum X shape 可打印任何形狀,最小尺寸可達(dá)100nm同時(shí)表面粗造度(Ra)小于5nm,打印面積可達(dá)25 cm


具備自動(dòng)滴膠模組功能的先進(jìn)打印系統(tǒng),過(guò)夜效率可達(dá)200個(gè)特征結(jié)構(gòu)。


通用高性能雙光子聚合材料,適用高分子及玻璃打印。



Reshaping precision.

作為已被工業(yè)界認(rèn)可的Nanoscribe公司推出的Quantum X平臺(tái)的二代加工系統(tǒng),Quantum X shape雙光子無(wú)掩膜光刻系統(tǒng)在3D微納加工領(lǐng)域擁有驚人的高精度,比肩于Nanoscribe公司在表面結(jié)構(gòu)應(yīng)用上突破性的雙光子灰度光刻(2GL ®)。全新的Quantum X shape的高精度有賴于其體素調(diào)制比和超精細(xì)處理網(wǎng)格,從而實(shí)現(xiàn)亞體素的尺寸控制。此外,受益于雙光子灰度光刻對(duì)體素的微調(diào),該系統(tǒng)在表面微結(jié)構(gòu)的制作上可達(dá)到超光滑,同時(shí)保持高精度的形狀控制。

Reshaping output.

Quantum X shape雙光子無(wú)掩膜光刻系統(tǒng)不僅是應(yīng)用于生物醫(yī)學(xué)、微光學(xué)、MEMS、微流道、表面工程學(xué)及其他很多領(lǐng)域中器件的快速原型制作的理想工具,同時(shí)也成為基于晶圓的小結(jié)構(gòu)單元的批量生產(chǎn)的簡(jiǎn)易工具。

Reshaping usability.

通過(guò)系統(tǒng)集成觸控屏控制打印文件來(lái)大大提高實(shí)用性。通過(guò)系統(tǒng)自帶的nanoConnectX軟件來(lái)進(jìn)行打印文件的遠(yuǎn)程監(jiān)控及多用戶的使用配置,實(shí)現(xiàn)推動(dòng)工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)化及基于晶圓批量效率生產(chǎn)。

 

 

主要特征:

* 納米尺度打?。涸谌我饪臻g方向上的特征尺度控制,可達(dá)100nm

* 超快體素控制和100nm處理網(wǎng)格的高速3D微納加工

* 先進(jìn)的振鏡軌道控制保證的快速掃描速度下的軌跡準(zhǔn)確度

* 自動(dòng)化自校準(zhǔn)路徑保證的高精度激光能量控制及定位

* 可達(dá)6英寸基片和硅片的廣泛選擇

* 工業(yè)化批量生產(chǎn): 200個(gè)標(biāo)準(zhǔn)介觀尺度結(jié)構(gòu)通宵產(chǎn)量

* 保證實(shí)用性和體驗(yàn)感的觸控屏和遠(yuǎn)程控制功能

* 快速原型制作,高精度,高設(shè)計(jì)自由度,簡(jiǎn)易明了的工作流程

* 工業(yè)驗(yàn)證的晶圓級(jí)批量生產(chǎn)

* 通用及專用的打印材料

* 兼容自主及第三方打印材料




 

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