工業(yè)無掩膜光刻系統 返回列表頁

Nanoscribe工業(yè)級高速灰度光刻微納打印系統 - Quantum X

德國Nanoscribe公司在2019慕尼黑光博會展 LASER World of Photonics上發(fā)布了全新工業(yè)級雙光子灰度光刻微納打印系統 Quantum X ，并榮獲創(chuàng)新獎。該系統是世界first基于雙光子灰度光刻技術（2GL®）的精密加工微納米打印系統，可應用于折射和衍射微光學。該系統的面世代表著Nanoscribe已進軍現代微加工工業(yè)領域。具有全自動化系統的Quantum X無論從外形或者使用體驗上都更符合現代工業(yè)需求。

Nanoscribe高速灰度光刻微納加工打印系統技術要點

這項突破性的技術將微納增材制造和超高速體素大小調節(jié)結合在一起：雙光子灰度光刻(2GL)是一種具有超高速、超精確的可以滿足自由形態(tài)的微加工技術，同時又不影響速度和精度。

Quantum X通過實時調制激光功率的技術在掃描平面上控制體素的大小。通過這種方式，具有復雜幾何形狀的結構可以被制造出來，同一物體中跨尺度的細節(jié)能夠實現一步打印。無論是離散的，還是連續(xù)的復雜結構均可以在可達6英寸的晶圓片基板上精細打印，而不需要額外的光刻步驟或掩模制造。

Nanoscribe高速灰度光刻微納加工打印系統 - 多種*智能化解決方案：
·配備自動識別匹配不同物鏡，樣品架以及樹脂的功能，有助于樣品制備和硬件配置之間的切換，從而加快整個工作流程。

·配備從始至終的智能軟件向導功能，以簡化從初準備到創(chuàng)建打印作業(yè)的整個流程。

·配備三個實時監(jiān)控攝像頭可同時監(jiān)管打印作業(yè)并支持直觀操作?，F在用戶可以直接在內置觸控屏上隨時檢查作業(yè)狀態(tài)，控制打印過程并可隨時顯示和調整打印效果。

技術參數
產地：德國全進口

打印技術：雙光子灰度光刻 （2GL)

三維橫向特征尺度：160nm

**分辨率：400nm

小表面粗糙度：≤10nm

激光掃描速度：≤250mm/s